同期活動：

2010靶材應用研討會 2010真空鍍膜技術交流會

一、市場概況

靶材及真空鍍膜應用半導體芯片制造、平板顯示器、太陽能、電池、微型元器件、玻璃鍍膜、裝飾材料功能鍍膜工業(yè)等各個行業(yè)。隨著材料表面技術的飛速發(fā)展，世界對靶材及鍍膜工業(yè)需求規(guī)模日益強盛。

快速增長的市場，離不開高品質的行業(yè)盛會推動行業(yè)的進一步發(fā)展，在得到相關主管部門和行業(yè)協(xié)會的大力支持下，2010中國國際靶材應用及鍍膜工業(yè)展覽會定于2010年12月6日至8日在上海光大會展中心舉行。屆時，組委會將邀請眾多國內(nèi)外靶材技術、產(chǎn)品、鍍膜設備、新材料等最新技術和產(chǎn)品將在會上展出。在展覽會期間，組委會還將組織一系列前瞻性、實用性、導向性的技術交流和新品發(fā)布等活動，為用戶、企業(yè)、研究機構和貿(mào)易團體提供一個廣闊的交流平臺。

大會組委會將以最高規(guī)格、最大規(guī)模、最完善的工作組織方案為您打造供需雙方最佳展示交流采購平臺，熱忱歡迎新老朋友踴躍報名參加。

　　ICChina（“中國國際半導體博覽會暨高峰論壇”）已經(jīng)成為國際半導體業(yè)界的盛會。參展商包括了國內(nèi)外知名的設計、制造、封裝測試、材料、設備等企業(yè)，高峰論壇與專題研討會的內(nèi)容涉及整個半導體產(chǎn)業(yè)鏈和整機用戶、通路商等。

二、展覽范圍

★靶材產(chǎn)品：

光學鍍膜材料、金屬膜料、合金靶材、氧化物靶材、硼化物靶材、碳化物靶材、貴金屬靶材、稀有金屬靶材、鈦，鈮，鋯，鎳，鉭，鎢，鉬，鉿，鉻銀等單一金屬靶材、高純合金靶材、蒸發(fā)材料、濺射靶材、陶瓷靶材、特種靶材等各類靶材。

★鍍膜設備：

離子鍍膜設備、磁控鍍膜設備、磁控/蒸發(fā)兩用鍍膜設備、磁控卷繞鍍膜機、真空爐、真空鍍膜設備等各類鍍膜設備；鍍膜材料、輔料等.

★靶材設備：

冷等靜壓機，熱等靜壓機，高溫釬焊爐，燒結爐，中頻感應爐，電子束區(qū)熔爐，電子束熔煉爐，大面積靶材釬焊爐，高溫真空熱壓爐，軋機等。

★靶材相關網(wǎng)站、書籍、協(xié)會、研究機構等。

三、高峰論壇及交流會

1、高峰論壇仍將是本次展覽會的重頭戲之一。屆時，主管政府部門的官員、中外企業(yè)屆領袖、業(yè)界專家等將匯聚一堂，對全球靶材應用及鍍膜工業(yè)進展、企業(yè)最新技術以及熱點問題進行探討和交流。

2、專題技術研討會：將圍繞靶材產(chǎn)品應用與相關行業(yè)設置專場交流會。

3、展會現(xiàn)場會議：將安排技術與產(chǎn)品推介會、招商引資、企業(yè)信息發(fā)布會等。

四、參展費用

A．標準展位：（9平方米）

◇國內(nèi)企業(yè)A區(qū)： RMB13800元/9M2，

◇國內(nèi)企業(yè)B區(qū)：RMB11800元/9M2，

◇國外企業(yè)：3800元美金/9M2

（注：雙面開口展位加收20%雙面開口費）

B．室內(nèi)光地：（36平方米起租）

◇國內(nèi)企業(yè)A區(qū)：RMB 1380元/M2

B區(qū)：RMB1180元/M2

◇國外企業(yè)收費：380美金/ M2

1．標準展位9m2（3m×3m）

配置：展出場地、三面展板（2.5m高）、楣牌制作、一張洽談桌、二把椅子、九平方地毯、220V電源插座一個、二支射燈；

2．光地（36m2起租）配置： 展出場地、保安服務，無任何設施，除此兩項費用外搭建費、光地管理費等其它費用全部由企業(yè)自己承擔；

3、現(xiàn)場研討會

◇凡是舉辦技術研討，新產(chǎn)品推廣會的單位，請將研討會內(nèi)容、新產(chǎn)品簡介、主講人資歷等有關資料在會前一月報組委會,國內(nèi)企業(yè)為10000元，境外企業(yè)為3000美元，時間為2小時。

五、廣告宣傳

為配合各參展企業(yè)的品牌展示與整體宣傳，我們特提供會刊廣告、展館現(xiàn)場廣告等多種形式的廣告宣傳方案供各參展商選擇，

1. 會刊

封 面 封底 封 二 封 三 跨彩頁 彩 頁 黑 白 文 字

20000 15000 10000 8000 9000 5000 2000 1000

2．入場券:5000元一萬張,3萬張起印；請柬:8000元一萬張；充氣拱門:3000元一天；

六、參展程序

◇ 填寫參展申請表郵寄或傳真至我組織單位；

◇ 申請展位三個工作日內(nèi)將參展費用電匯或交至組織單位

◇ 展位順序分配原則：“先申請，先付款，先安排”；

◇ 參展商在匯出各項費用后，請將銀行匯款底單傳真至組織單位；

七、參展說明

1、報名時間：2010年4月1日起，至展位額滿為止。

2、參展商需保證所有展品或宣傳品不會以任何形式侵犯第三者之注冊商標、版權、設計、商品名稱或專利；若違反上述保證，由參展商承擔相應的后果及法律責任，主辦單位及其代理人不負連帶責任。

3、參展商的展品須符合展覽主題及內(nèi)容。主辦方將保留拒絕不符合展覽范圍規(guī)定的展商參展，或要求其立即撤除不符合規(guī)定展品、相關宣傳品、裝飾品和其他物品，并立即封閉現(xiàn)場展位的權利，一切損失將由參展商承擔。屆時，主辦方將不予退還已繳納的參展費用。若展商行為有損展會形象，主辦單位有權要求賠償。

靶材應用及鍍膜工業(yè)展覽會招展辦公室

地 址：上海市群英路88弄1號1102室               

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